ASML将发货最新EUV光刻机 支撑后2nm工艺时期！

据外洋媒体报道称，ASML曾经确认，行将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200，比拟上代来说，表示愈加刁悍，固然不会卖给中国厂商。依照官方的说法，EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改良款，其将领有更高的晶圆吞吐量（EXE:5000为每小时185片以上），能够更好的为2nm工艺量产做支持。在这之前，ASML发布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机（一种存在高数值孔径跟每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大量量出产体系），这标记着他们在引入0.55 NA EUV的途径上又迈出了一步。TWINSCAN EXE:5000跟EXE:5200均供给了0.55数值孔径，比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度进步了，能够为更小的晶体管功效供给更高辨别率的形式。EUV 0.55 NA 的计划旨在从2025年开端实现多个将来节点，这是业内初次安排，随后将采取相似密度的内存技巧。